（B） 常规的多个元件和互连组合而成的布图设计（拓朴图），只有在其组合作为一个整体符合（A）项所述的条件时，才应受到保护。
《美国芯片法》第902条（b）款：
本章对掩膜作品的保护不适用于下列掩膜作品：
（1）不具备原创性；或者
（2）设计已广泛采用的，平凡的或为半导体工业界所熟悉的，或者设计虽有变化，但其组合从整体上看并不具备原创性。
《中国集成电路条例》使用“独创性”而不使用“原创性”从字面上至少有以下两个特点：第一，有别于版权中的“原创性”，第二，将布图设计中常规设计中常规设计排除在外更为明显。遗憾地是英文中很难找到相应的词以示这种差别，故统称为originality，对本文而言，“原创性”与“独创性”为同义。
前面分析了集成电路布图设计与著作权的保护要件的相同点和不同点，下面再将它与专利的保护要件进行比较。专利的保护要件是新颖性、非显而易见性（或创造性）和实用性。其中非显而易见性是指申请专利的发明创造与现有技术相比较，对于该领域的普通技术人员来说是非显而易见的。判断非显而易见性有两个参照物，技术的参照物是现有技术、人员的参照物是本行业普通技术人员。与判断新颖性不一样，判断非显而易见性可以采取“多对一”的比较方法，即将多个信息源（如多个已有的专利技术）综合起来与该技术方案进行比较，比较的结果只有按“本行业普遍技术人员”的标准来看是非显而易见的，则才满足“非显性”的要求。这也就是平常所说的，技术方案要获得专利必须具有一定的发明跨度。显然，“非显而易见”要比“非常规设计”的标准高。换句话说，能达到“非常规设计”的，未必就能达到“非显而易见”。
现将集成电路布图设计与专利、版权保护要件列表比较如下：
版权
集成电路布图设计
专利
要
件
自己创作（原创性）
① 自己创作；且
② 非常规设计
① 新款性；
② 创造性（非显而见性）；且
③ 实用性
由此可见，集成电路布图设计的独创性要求高于版权中的原创性要求，但低于专利中的非显而易见性要求。
四、 集成电路布图设计专有权
集成电路布图设计是一种工程设计，其专有权有以下两个特征：第一，集成电路的布图设计需要昂贵的设备和大量的资金，因此绝大多数设计属职务创作或雇佣创作，其布图设计专有权直接归设计人所供职的法人或雇主所有。这一点反映出现代知识产权制度的新变化，例如美国专利法规定，申请专利只能是发明人（自然人），而不是其雇主或供职的法人，然而，《美国芯片法》却规定：“……对于受雇工作范围内所创作的掩膜作品，则所有权人是指雇佣该掩膜作品创作人的雇主……” 。[16]第二，因为集成电路布图设计是一种工程设计，故其精神权利远不如经济权利那么重要，有关专有权的条款只有经济权利的规定，而无精神权利的规定。概括起来，布图设计专有权主要有4项（全部是经济权利）：
