定义中的“多个元件”意将分立元件（如单个晶体管）的布图设计排除在外，而“至少有一个是有源元件”则将仅由无源元件（如二极管矩阵，电客矩阵）的布图设计排除在外。
概括起来，集成电路布图设计保护客体既是指集成电路中元件和互连线路的三维配置，又是指为制造集成电路而准备的上述三维配置，如果把后者比作相片的“底片”的话，则前者就是“相片”。按照立法宗旨，对布图设计的保护决不延及任何思想、原理、发现、处理过程、操作方法或数学概念等，而不管它们以何种形式在布图设计中进行描述、解释、阐明或嵌入，这一界定在大多数国家的法律条款中都是明示的。
三、 集成电路布图设计保护要件
所谓的保护要件是指为获得法律保护所必须满足的实质性条件，例如，专利的保护要件是新颖性、创造性（或非显而易见性）和实用性，著作权的保护要件是原创性（originality ）.虽然集成电路布图设计的保护要件也引用原创性原则，但其内容与著作权的原创性却有所不同。对著作权而言，作品只要能确定系作者自己的创作而非抄袭、复制，则该作品就具备原创性的条件。但对于集成电路布图设计而言，由于它必须遵守工程设计原理、方法、规范，甚至采用设计常规。上述这些知识已进入公有领域，属人类共有，不得为“私权”，这是知识产权有别于其他财产权一大特征。对于智力成果，只能对自己创造、创作或其他智力活动而产生的信息主张有限度的权利。“贪天之功，据为已有”违反了人类的理性。所以在布图设计法律保护制度中，原创性是指该布图设计系创作者自己的智力劳动成果，并且在布图设计创作者和集成电路制造者中，该布图设计不是常规的设计。上述这句话概括起来就是，布图设计的原创性等于“自己创作”加“非常规设计”。
目前，集成电路布图设计绝大多数都以CAD（计算机辅助设计的英文缩写）软件为工具，并且把基本逻辑元件的版图设计收集起来作为“单元库”（数据库的一种）提供利用，其原理就如同搭积木。因此，这种集成电路就其每个基本逻辑元件来说，都可以认为是属于常规的标准设计。对于这种由若干常规元件互连组合而成的集成电路，对其布图设计只有在其组合作为一个整体上看符合“自己创作”加“非常规设计”时，才具备原创性条件。
上述有关布图设计原创性条件几乎毫无例外地被各国有关保护布图设计法律及国际公约所接受，现摘录部分有关条款如下：
《中国集成电路条例》第
四条：
受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件
《华盛顿条约》第三条（二）款：
原创性要求：
（A）……适用于具有原创性的布图设计（拓朴图），即该布图设计（拓朴图）是其创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时在布图设计（拓朴图）创作者和集成电路制造者中不是常规的设计。
