《美国芯片法》生效后，世界知识产权组织就开始着手有关国际公约的制定工作。从1985年到1988年，世界知识产权组织先后召开4次专家委员会会议和3次发展中国家专家咨询会议，1988年还专门为制定有关集成电路布图设计保护国际公约外交会议召开了一次预备会议。[11]世界知识产权组织主持制定的《华盛顿条约》虽然获得通过，但在保护期及非自愿许可等几点关键条款上未能得到某些发达国家的认同，因此该公约很难实施。
1989年，当关于集成电路布图设计保护的争论正在进行的时候，另一场更加激烈的知识产权谈判已经拉开序幕。1986年9月15日开始的关贸总协定第八轮谈判经过激烈的争论已将知识产权保护问题列入谈判的议题，此轮谈判因为是在乌拉圭的埃斯特角城发起，故称“乌拉圭回合”。这样某些发达国家在《华盛顿条约》不能满足的利益，就有可能从乌拉圭回合中获得，这完全应验了中国人熟悉的那句老话，“你打你的，我打我的”。或许我们可以从中悟出点道道，科学技术在一个国家实力中所占的份量。
1989年5月26日《华盛顿条约》开放签字之前，中国学界就有一部分学者对这一新客体的知识产权保护制度进行研究，这些成果从那个时期的论文中可以反映出来。《华盛顿条约》开放签字之后，中国就开始着手有关法律的起草工作，1991年3月国务院法制局正式发文，将《半导体
集成电路布图设计保护条例》列入1991-1992年度立法计划。“目前，中国的集成电路技术虽然还不发达，但从保护和鼓励智力创作及发展中国集成电路工业的长远利益出发，很有必要制定一部既适应中国集成电路产业发展需要，又符合国际知识产权保护原则的集成电路知识产权保护专门法规。”[12]机械电子工业部俞忠钰总工程师的上述观点大概可以反映中国集成电路工业的现况及中国政府对集成电路布图设计知识产权保护的立场。中国经过了大约10年的努力及十几次对该条例的讨论修改，集成电路布图设计保护的立法终于在2001年4月2日划了句号。
二、 集成电路布图设计保护客体
专利法的保护客体是发明创造，
著作权法的保护客体是作品，而集成电路布图设计保护法的保护客体则是布图设计。
集成电路芯片的设计一般分为两个步骤。第一步骤称为逻辑设计，它是根据该集成电路芯片所要执行的功能，利用导线将一些基本逻辑元件（如与非门、或非门、反门、异或门、三态门、全加器、半加器、触发器、寄存器、锁存器、存储单元等）连接在一起，最后列出所有逻辑元件的连接网表（简称为网表）。第二个步骤称为布图设计（也有人称之为布局设计，版图设计、掩膜设计等），它是根据第一步的逻辑设计所提供的网表，根据所选择电路，根据具体的工艺条件，对芯片里所有的逻辑元件及其之间的连线进行几何配置和布局。在设计中，元件的位置和尺寸应满足电路的设计要求和设计规则（主要指极限尺寸）。互连层次应满足工艺规范，而整个芯片应以尽可能小的面积实现原设计的性能要求。布图设计的“产品”是一套类似于照像底片那样的掩膜。不过，它要比照像底片精细得多，目前工艺可以做到0.4微米或更细。我们所讨论的法律要保护的就是体现于这组掩膜上的布图设计。
